熟悉半導(dǎo)體領(lǐng)域的人都知道硅晶圓，硅晶圓作為半導(dǎo)體電路的核心組件，是一種承載物，為了制成半導(dǎo)體積體電路的原材料。所以，半導(dǎo)體質(zhì)量的好壞與硅晶圓生產(chǎn)息息相關(guān)。

　　我們發(fā)現(xiàn)為了保證硅晶圓質(zhì)量，其清洗用水多為高質(zhì)量的超純水，因?yàn)橹挥谐兯鳛榍逑从盟拍鼙ＷC硅晶圓的品質(zhì)，保證硅片無(wú)雜質(zhì)吸附，那么什么樣的超純水設(shè)備才能產(chǎn)出高質(zhì)量的超純水呢？

　　采用預(yù)處理+反滲透+EDI+拋光混床的工藝組合形式的超純水設(shè)備方可制備出高質(zhì)量的超純水。這類(lèi)硅晶圓超純水設(shè)備具有高效低能、運(yùn)行成本低，水資源利用率高、體積較小、維修量小，運(yùn)行的時(shí)間長(zhǎng)等優(yōu)點(diǎn)。設(shè)備應(yīng)用的EDI模塊水處理過(guò)程中不需要添加任何化學(xué)品，不僅減少了化學(xué)品運(yùn)輸問(wèn)題，同時(shí)降低了系統(tǒng)運(yùn)行費(fèi)用。本模塊不會(huì)有酸堿廢液產(chǎn)生，所以不需要酸堿中和池，一般情況下，EDI水處理系統(tǒng)產(chǎn)出的濃水完全可以回收再利用。

　　硅晶圓超純水設(shè)備還具有無(wú)需樹(shù)脂再生，自動(dòng)化性能強(qiáng)，無(wú)需人工操作等優(yōu)勢(shì)。設(shè)備能夠連續(xù)穩(wěn)定的制備品質(zhì)優(yōu)良的超純水，采用的設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)相對(duì)靠緊，所以其占地非常小，可以為企業(yè)節(jié)省很多空間，在符合硅晶圓生產(chǎn)用水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)的同時(shí)可以使水資源的利用率達(dá)到80%左右，有效提升了水資源利用率。

　　隨著科技的不斷進(jìn)步，半導(dǎo)體行業(yè)不斷的發(fā)展，我國(guó)對(duì)于該行業(yè)的政策支持，使得硅晶圓的市場(chǎng)需求也在不斷增加，超純水的需求也在悄然的增加。

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