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EDI超純水設備是一種純物理過程的制備技術。整個工藝出水阻力可達18mΩ·cm(25℃)，具有長期不間斷運行、自動運行、操作簡單、水質穩定、無污染物、成本低等特點。...
超純水制備采用反滲透技術+EDI超純水設備+拋光混床系統，其出水阻力可達18mΩ·cm(25℃)，具有長期不間斷運行、自動運行、操作簡單、水質穩定、無污染物、成本低等特點。...
超純水設備具有連續運行性，不需要再生產;結構緊湊、管理分布合理、簡單;無酸堿處理，節能環保;采用潔凈循環管道，確保系統內無死水。...
超純水系統采用反滲透技術+EDI+拋光混床系統制備超純水。它是一種純物理過程的制備技術。其出水電阻可達18mΩ·cm(25℃)，具有長期不間斷運行、自動運行、操作簡單、水質穩定、無污染物、成本低等...
超純水是指電阻率為18MΩ·cm(25℃)的水，除水分子外幾乎沒有雜質，完全滿足芯片生產用水需求。...
萊特萊德經常采用反滲透工藝，或反滲透后再采用EDI和拋光混床工藝生產超純水，出水電導率可達18.2MΩ，滿足芯片行業用水需求。...
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