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EDI超純水設備作為一種生產超純水的新工藝，采用反滲透設備+EDI+拋光混床工藝，出水電導率可達18.2MΩ，滿足芯片行業的用水需求。...
萊特萊德芯片生產用超純水設備通常由石英砂過濾器、活性炭過濾器、阻垢劑、精密過濾器等構成預處理系統，RO反滲透主機系統、離子交換混床(EDI電除鹽系統)系統等構成主設備系統。...
我們需要知道，EDI超純水設備通常是由預處理過濾設備、反滲透設備和EDI模塊三個單位組合而成，其中預處理過濾設備和反滲透設備可以凈化原水達到飲用水標準，而EDI模塊通過電解水質達到目標純度。...
萊特萊德超純水設備在設計上采用成熟、可靠、自動化程度高的兩級RO+EDI+精混床除鹽水處理工藝，確保處理后出水電阻率達到18 MΩ.CM以上。...
超純水設備具有連續出水、無需酸堿再生和無人值守、安裝簡便、操作方便等優勢，出水水質符合電池用水相關標準，為半導體用水保駕護航。...
EDI是一種結合了離子交換技術、離子交換膜技術和離子電遷移技術的純水制造技術。...
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