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萊特萊德生產的EDI超純水設備，主要采用的是兩級RO+EDI+精混床除鹽水處理工藝，可以確保處理后的超純水水質電阻率達到18.2MΩ.cm。...
萊特萊德生產的超純水處理設備，水質電阻率達到了18 MΩ*cm(25℃)，完全符合芯片清洗用水要求。...
萊特萊德超純水設備能夠連續穩定地制備高質量的超純水，不會因樹脂再生而停止運行。...
EDI處理裝置廢水產量少，不會污染環境，具有很高的環境效益和經濟效益，具有廣闊的發展前景。...
EDI超純水設備作為一種生產超純水的新工藝，采用反滲透設備+EDI+拋光混床工藝，出水電導率可達18.2MΩ，滿足芯片行業的用水需求。...
萊特萊德芯片生產用超純水設備通常由石英砂過濾器、活性炭過濾器、阻垢劑、精密過濾器等構成預處理系統，RO反滲透主機系統、離子交換混床(EDI電除鹽系統)系統等構成主設備系統。...
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